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Hochreines Stickstoffreinigungssystem für Halbleiteranwendungen
Das Stickstoffreinigungsgerät vom Typ Kohlenstoffzugabe und Desoxidation verarbeitet 99,9 % des aus dem Stickstofferzeugungsmechanismus extrahierten Stickstoffs weiter, wodurch 0,1 % des Sauerstoffs im Stickstoff chemisch mit einem Kohlenstoffdesoxidationsmittel reagieren und Kohlendioxid erzeugen. Außerdem werden Kohlendioxid und Wasserdampf aus dem Stickstoff entfernt, wodurch der Stickstoff auf über 99,999 % gereinigt wird. Dadurch wird die Qualität des Produktgases verbessert und es kann an Branchen mit besonderen Anforderungen an die Reinheit und Qualität des Gases angepasst werden.
Stickstoffreinigungssystem Stickstoffreiniger für die Halbleiterindustrie Elektronik für hochreinen StickstoffgeneratorSend Email Einzelheiten
